Caracterização Física e Eletroquímica de Filmes Finos de Hexacianoferrato de Níquel

Descrição

Este projeto visa a realização de trabalho científico no Departamento de Física da Universidade Federal de Viçosa. O objetivo principal é caracterizar o crescimento de camadas do composto Hexacianoferrato de Níquel (Ni-HCFe) através da modificação de camadas de Ni previamente depositadas via Evaporação Catódica (“sputtering”) em substrato de Si. A modificação da camada ocorre através de voltametrias cíclicas sequenciais em eletrólito contendo íons hexacianoferratos. Todas as nanoestruturas serão caracterizadas utilizando diversas técnicas de caracterização. A estequiometria dos depósitos será investigada via espectroscopia por dispersão de energia (EDS – sigla em inglês de “Energy Dispersive Spectroscopy”), que servirá para confirmar a formação do composto. Propriedades morfológicas serão investigadas via imagens da superfície obtidas por Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV), e tem como objetivo descrever a formação das camadas, medir o tamanho médio dos grãos e densidade de grãos. A espessura dos depósitos será medida com a técnica de Perfilometria Óptica e utilizada para determinação da taxa de crescimento da camada do Ni-HCFe. Será utilizada ainda a técnica de Espectroscopia de Impedância Eletroquímica para identificar e descrever todos os elementos ativos eletroquimicamente no sistema. Essas caracterizações serão relacionadas aos principais parâmetros de deposição como, número e velocidade dos ciclos voltamêtricos e servirão para determinar a efetividade da derivação da camada de Ni em NiHCF, além de determinar as reais potencialidades de aplicação do material como dispositivos seja de armazenamento de cargas, sensor eletroquímica ou catalizador.

Palavras-chave

• Eletrodeposição
• Filmes Finos
• Hexacianoferrato

Grupo de pesquisa

Ciência dos Materiais

Financiamento

Com financiamento